Т 48 Ткачев, Н. К. Анализ вклада двойного слоя в поверхностное натяжение галогенидов щелочных металлов [] = Double-Layer Contribution to the Surface Tension of Halides of Alkali Metals / Н. К. Ткачев, М. А. Кобелев> // Электрохимия. - 2004. - Т. 40, N 7. - 831-838: рис. - Библиогр.: с. 838 (16 назв.) . - ISSN 0424-8570 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ГАЛОГЕНИДЫ ЩЕЛОЧНЫХ МЕТАЛЛОВ -- ДВОЙНЫЕ СЛОИ -- НАТЯЖЕНИЕ ПОВЕРХНОСТНОЕ -- ПОВЕРХНОСТНОЕ НАТЯЖЕНИЕ -- СЛОИ ДВОЙНЫЕ -- СЛОИ ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ -- ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ СЛОИ Аннотация: Представлен анализ эффектов заряжения границы раздела на величину поверхностного натяжения простых галогенидов щелочных металлов (ГЩМ). Показано, что в рамках теории функционала плотности в приближении квадрата градиента плотности при использовании параметризированного профиля и средне-сферического приближения (MSA) для локальной свободной энергии наблюдается удовлетворительное согласие рассчитанного поверхностного натяжения с экспериментальными данными |