Ф 16 Фазозарождение кремния на стеклоуглероде в расплаве KF-KCl-K2SIF6 / С. И. Жук, Л. М. Минченко, О. В. Чемезов, В. Б. Малков , А. В. Исаков, Ю. П. Зайков // Chimica Techno Acta . - 2015. - Vol. 2, № 1. - С. 42-51 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХРОНОАМПЕРОМЕТРИЯ -- ЗАРОЖДЕНИЕ КРИСТАЛЛОВ -- ПОВЕРХНОСТНЫЕ ЯВЛЕНИЯ -- СТЕКЛОУГЛЕРОДНАЯ ПОДЛОЖКА Аннотация: Методом хроноамперометрии изучено зарождение кремния на стеклоуглеродной подложке в расплаве KF-KCl-K2SiF6 при температуре 675 ºС. Выявлено прогрессивное фазозарождение кремния. Из SEM-микрофотографий зародышей кремния, выращенных на стеклоуглеродной подложке в потенциостатическом режиме в интервале потенциалов от -0,005 до -0,03 В в расплаве KF-KCl-K2SiF6 при Т = 675 ºС, видно, что в условиях одного эксперимента они имеют размеры, различающиеся в несколько раз, что подтверждает прогрессирующий характер возникновения зародышей кремния. Показано, что когда к рабочему электроду при прочих равных условиях прикладывается более отрицательное значение потенциала относительно кремниевого электрода сравнения, то количество сформировавшихся зародышей на поверхности электрода растет |