Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : 54/E 43 Автор(ы) : Frolenko D. B., Martem'yanova Z. S., Baraboshkin A. N., Plaksin S. V. Заглавие : Electrodeposition of silicon from fluoride-chloride melts Место публикации : Melts. - 1993. - V. 7, N 5. - С. 308-314 Примечания : Bibliogr.: 4 ref. ББК : 54 Предметные рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): электроосаждение кремния--кремний--si--расплав фторидно-хлоридный--lif-kcl-cscl-k2sif6--lif--kcl--cscl--k2sif6--литий--фторид лития--хлорид калия--хлорид цезия--k--cs--калий--цезий--рост кристаллов--кристаллы--зародышеобразование кристаллов Аннотация: Найдены стабильные по концентрации кремния расплавы и показана возможность получения из этих расплавов моно- и поликристаллических кремниевых осадков. Получена температурная зависимость структуры кремниевых осадков на графите, стеклоуглероде и монокристаллическом кремнии с ориентацией {100} и {111}. Большое внимание уделено зарождению и росту двойниковых кристаллов на монокристаллических кремниевых подложках. Представлена попытка объяснить форму двойниковых кристаллов и установить кристаллографическое соответствие этих кристаллов с монокристаллической матрицей Доп.точки доступа: Frolenko, D. B.; Martem'yanova, Z. S.; Мартемьянова Зинаида Самуиловна; Baraboshkin, A. N.; Барабошкин Алексей Николаевич; Plaksin, S. V.; Плаксин Сергей Владимирович