Ф 45 Фетисов, А. В. Анализ электронных состояний оксидного слоя на поверхности ультрадисперсной меди методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии = XPS Analysis of Electronic States in Oxide Layer on Ultradisperse Copper Surface / А. В. Фетисов, М. В. Кузнецов // Журнал прикладной спектроскопии. - 2009. - Т. 76, № 4. - С. 552-556 : табл., граф. - Библиогр.: с. 556 (6 назв.) Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): МЕДЬ УЛЬТРАДИСПЕРСНАЯ -- МЕТОД РЕНТГЕНОВСКОЙ ФОТОЭЛЕКТРОННОЙ СПЕКТРОСКОПИИ -- ОКСИД МЕДИ -- ТОНКИЕ ПЛЕНКИ Аннотация: Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФЭС) проведены исследования электронных состояний оксида меди, покрывающего тонким (2.0 ± 0.5 нм) слоем частицы ультрадисперсной меди. Показано, что уменьшение толщины CuO-пленки приводит к экстремальному поведению параметров РФЭС-спектра в отличие от их монотонных изменений для CuO-наночастиц. Подобное поведение спектральных параметров объяснено конкурирующим влиянием на изучаемую систему двух факторов: размера и электростатического поля материала подложки |