Т 47 Тищенко, А. А. Электрохимическое осаждение покрытий карбида вольфрама из галогенидных расплавов [] / А. А. Тищенко, В. В. Малышев, В. И. Шаповал // Журнал прикладной химии. - 1999. - Т. 72, N 11. - С. 1812-1815. - Библиогр.: 11 назв. . - ISSN 0044-4618 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХИМИЯ -- NaCl-LiF-Na2WO3-Na2CO3 -- W2C -- NaCl -- LiF -- Na2WO3 -- Na2CO3 -- ОСАЖДЕНИЕ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОЕ -- ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ -- ПОКРЫТИЕ -- КАРБИД ВОЛЬФРАМА -- ВОЛЬФРАМ -- РАСПЛАВЫ ГАЛОГЕНИДНЫЕ -- ГАЛОГЕНИДНЫЕ РАСПЛАВЫ -- W -- ХЛОРИД НАТРИЯ -- НАТРИЙ -- Na -- ФТОРИД ЛИТИЯ -- ЛИТИЙ -- Li -- ВОЛЬФРАМАТ НАТРИЯ -- КАРБОНАТ НАТРИЯ -- ПОДЛОЖКИ МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ -- МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ ПОДЛОЖКИ Аннотация: Исследовано электрохимическое поведение расплавов NaCl-LiF-Na2WO3-Na2CO3. Изучены условия электрохимического осаждения покрытий карбида вольфрама на металлические подложки |