И 75 Ионно-лучевое травление как промежуточная стадия при удалении пассивируюших слоев микросхем в рамках технологии анализа отказов / Д. А. Абдуллаев, А. А. Зайцев, Е. А. Кельм, Р. А. Милованов // Нано- и микросистемная техника. - 2013. - № 11. - С. 35-39. - Библиогр.: с. 39 (3 назв.) . - ISSN 1813-8586
Рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ИОННО-ЛУЧЕВОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- РЕАКТИВНО-ИОННОЕ ПЛАЗМЕННОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ПЛАНАРИЗАЦИЯ МИКРОМЕТРОВОГО РЕЛЬЕФА СБИС -- ТЕХНОЛОГИЯ АНАЛИЗА ОТКАЗОВ Аннотация: Представлены результаты серии экспериментов по удалению пассивации СБИС с промежуточной планаризацией субмикрометрового рельефа методами ионно-лучевого травления в рамках технологии анализа отказов. Определены оптимальные параметры планаризации микрометрового рельефа |