Вид документа : Шифр издания : 620.3/Т 48 Автор(ы) : Ткачева А. А. Заглавие : Плазменное травление GaN и его твердых растворов: достижения и перспективы Место публикации : Нано- и микросистемная техника . - 2012. - № 6. - С. 21-25: табл. Примечания : Библиогр.: с. 25 (12 назв.) УДК : 620.3 ББК : 623.7 Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): травление сухое--нитрид галлия--gan--плазма индуктивно-связанная Аннотация: Представлен обзор материалов по плазменному травлению GaN и твердых растворов на его основе, включающий описание различных источников, режимов и газов, применяемых плазменном травлении материалов нитридной группы, вопросы качества травления, а также применение плазменного травления в технологии производства современных НЕМТ-транзисторов