Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : 620.3/И 88 Автор(ы) : Лучкин С. Ю., Акимов И. И., Кацай А. В., Краснобаев Н. Н., Митин А. В., Митин В. С., Орлов В. К., Титов А. О. Заглавие : Исследование кристаллографической текстуры и морфологии поверхности буферных слоев для ВТСП-2, нанесенных методом дуального термореактивного магнетронного напыления Место публикации : Нанотехника. - 2011. - № 4. - С. 78-84: рис. - ISSN 1816-4498. - ISSN 1816-4498 Примечания : Библиогр.: с. 84 (8 назв.) УДК : 620.3 ББК : 623.7 Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): текстура--втсп--слои буферные--оксид магния--осаждение с ионно-пучковым ассистированием Аннотация: Проведена серия экспериментов с варьированием технологических режимов при нанесении буферных пленочных покрытий из MgO и YSZ методом «дуального» термореактивного магнетронного напыления с ионным ассистированием (IBAD) на ленточную подложку из сплава Х20Н80-Н. Результаты исследований показывают, что кристаллическая стехиометрическая морфологически однородная пленка MgO толщиной до 100 нм, нанесенная на ленточную подложку, имеет преимущественно биаксиальную текстуру (200) с полушириной текстурного максимума 5-10°, при этом интенсивность дифракционного пика в случае применения IBAD существенно увеличивается. Кристаллическая пленка YSZ (200 нм) повторяет текстуру подложки. Полученные результаты свидетельствуют о возможности использования данных ленточных носителей с буферами в качестве основы для нанесения оксидных композиций для получения ВТСП-лент 2 поколения Доп.точки доступа: Лучкин, С. Ю.; Акимов, И. И.; Кацай, А. В.; Краснобаев, Н. Н.; Митин, А. В.; Митин, В. С.; Орлов, В. К.; Титов, А. О.