Вид документа : Однотомное издание Шифр издания : 541.1/Ф 94 Заглавие : Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники Выходные данные : Новосибирск: Изд-во СО РАН, 2013 Колич.характеристики :175 с Коллективы : Ин-т неорганической химии им. А. В. Николаева СО РАН Серия: Интеграционные проекты СО РАН; вып. 37 Разночтения заглавия :Загл. на доп.тит.листе: Fundamental bases of chemical vapour deposition procesess of films and structures for nanoelectronics Примечания : Библиогр.: с. 156-171 ISBN, Цена 978-5-7692-0669-6: 830.00 р. ГРНТИ : 31.15.19 ББК : 541.171 Предметные рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ-- ХИМИЯ ТВЕРДОГО ТЕЛА Экземпляры :кх(1) Свободны : кх(1) Доп.точки доступа: Смирнова, Т. П. \ред.\; Ин-т неорганической химии им. А. В. Николаева СО РАН