Инвентарный номер: нет.
   
   И 85


    Исаев, В. А.
    О соотношении объемной и поверхностной диффузии при росте зародышей кристаллов [] / В. А. Исаев, В. Н. Чеботин // Тр. / Ин-т электрохимии УНЦ АН СССР. - 1978. - Вып. 27 : Ионные расплавы и твердые электролиты. - С. 46-51. - Библиогр.: 4 назв.
ББК 54
Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ
Кл.слова (ненормированные):
ДИФФУЗИЯ ПОВЕРХНОСТНАЯ -- ДИФФУЗИЯ ОБЪЕМНАЯ -- ЗАРОДЫШЕОБРАЗОВАНИЕ КРИСТАЛЛОВ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ
Аннотация: Рассмотрены два механизма роста сверхкритического зародыша при электроосаждении из расплава: 1. объемная диффузия непосредственно из расплава; 2. поверхностная диффузия по подложке. Получены соответствующие величины тока, идущего на рост зародыша. Выведены соотношения объемного и поверхностного токов при незаторможенной и сильно заторможенной стадии перехода. Оценено соотношение объемного и поверхностного тока для роста зародыша из расплава в зависимости от радиуса зародыша и параметров электроосаждения. Показано преобладание объемной диффузии над поверхностной при росте сверхкритического зародыша