Инвентарный номер: нет.        Д 24         Двойникование в эпитаксиальных электролитических осадках вольфрама на грани (111) молибдена [] / А. Н. Барабошкин, С. В. Плаксин, А. М. Молчанов, Е. С. Коровенкова // Электрохимия. - 1997. - Т. 33, N 10. - С. 1236-1239. . - ISSN 0424-8570ББК 54 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ВОЛЬФРАМ -- МОЛИБДЕН -- W -- Mo -- ДВОЙНИКОВАНИЕ -- ОСАДКИ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИЕ -- ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИЕ ОСАДКИ -- ОСАДКИ ЭПИТАКСИАЛЬНЫЕ -- ЭПИТАКСИАЛЬНЫЕ ОСАДКИ -- ХИМИЯ -- ОСАЖДЕНИЕ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОЕ -- ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ

Инвентарный номер: нет.        П 37     Плаксин, С. В.     Структура эпитаксиальных осадков вольфрама, полученных электролизом вольфраматного расплава [] / С. В. Плаксин, А. Н. Барабошкин // Электродные процессы в галогенидных и оксидных электролитах: (Высокотемпературная электрохимия): Сб. ст. / УНЦ АН СССР. - 1981. - С. 22-27. - Библиогр.: 5 назв. ББК 54 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): СТРУКТУРА ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ ОСАДКОВ -- ОСАДКИ ЭПИТАКСИАЛЬНЫЕ -- ВОЛЬФРАМ -- W -- ОСАДКИ -- РАСПЛАВ ВОЛЬФРАМАТНЫЙ -- ЭЛЕКТРОЛИЗ РАСПЛАВОВ -- Na -- Na2WO4 -- WO3 -- 0.8Na2WO4-0.2WO3 -- Na2WO4-WO3 -- ВОЛЬФРАМАТ НАТРИЯ -- НАТРИЙ -- ДЕФЕКТ КРИСТАЛЛИЧЕСКИЙ -- ПОДЛОЖКА МОЛИБДЕНОВАЯ -- МОЛИБДЕН -- Mo Аннотация: Электролизом расплава 0.8Na2WO4-0.2WO3 при температурах 850-950 С на монокристаллических подложках из молибдена с ориентациями (100), (110), (111), (112) при катодных плоскостях тока 10-100 мА/см2 получены эпитаксиальные монокристаллические слои вольфрама толщиной до 500 мкм. Морфология поверхности осадков изменяется с условиями электролиза. Наблюдаются два основных типа дефектов роста: ямки, форма которых отражает симметрию грани, и пирамиды, форма которых не отвечает симметрии грани, хотя их взаимное расположение и отвечает этой симметрии

Инвентарный номер: нет.        T 44         The electrodeposition of rhenium on the oriented rhenium foils from molten salts [Text] / N. O. Esina, L. M. Minchenko, A. A. Pankratov, V. A. Isaev // Progress in Molten Salt Chemistry: Proceedings from the EUCHEM 2000 Conference on Molten Salts (Denmark, August 20-25, 2000). - 2000. - V. 1. - P203-207. - Bibliogr.: p. 206-207 (7 ref.) ББК 54 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): СОЛИ РАСПЛАВЛЕННЫЕ -- РАСПЛАВ ГАЛОГЕНИДНЫЙ -- РЕНИЙ -- Re -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ РЕНИЯ -- МОРФОЛОГИЯ ОСАДКОВ -- СТРУКТУРА ОСАДКОВ -- ТЕКСТУРА РОСТА ОСАДКОВ -- ОСАДКИ ЭПИТАКСИАЛЬНЫЕ Аннотация: The epitaxial growth of rhenium electrodeposited from halide melts onto the poly- and monocrystalline rhenium foil with different orientations: (1010), (1120) and (0001) was investigated. It was established that the epitaxial growth onto the rhenium monocrystalline foils with (0001) orientation occurred at temperature 870-920 C in the range of the cathodic current densities 0.01-0.10 A/cm2. If the orientation of rhenium substrates disagreed with the direction of the growth texture broke up and the formation of the growth texture began. The surface morphology of the rhenium deposits was studied too. The microhardness of the epitaxial monocrystalline rhenium layers and the deposits with the growth texture (0001) was measured. It was found that the anisotropy of the face growth rate took place