Инвентарный номер: 65215 -        В 85         Катодные и анодные процессы при электролизе хлоридных и фторидно-хлоридных расплавов, содержащих цирконий и гафний [] / М. В. Смирнов, А. Н. Барабошкин, В. Е. Комаров, Н. А. Салтыкова, Р. А. Еркомаишвили // Всесоюзное совещание по физической химии расплавленных солей и шлаков: Тез. докл. / Ин-т электрохимии УФАН СССР. - 1960. - С. 44-45 ББК 54 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ПРОЦЕСС АНОДНЫЙ -- ПРОЦЕСС КАТОДНЫЙ -- ЭЛЕКТРОЛИЗ -- РАСПЛАВ ХЛОРИДНЫЙ -- РАСПЛАВ ФТОРИДНО-ХЛОРИДНЫЙ -- ЦИРКОНИЙ -- ГАФНИЙ -- Zr -- Hf -- РАСТВОРЕНИЕ АНОДНОЕ -- ОСАЖДЕНИЕ КАТОДНОЕ -- РАСТВОРЕНИЕ ЦИРКОНИЯ -- РАСТВОРЕНИЕ ГАФНИЯ -- ОСАЖДЕНИЕ ЦИРКОНИЯ -- ОСАЖДЕНИЕ ГАФНИЯ -- ХИМИЯ

Инвентарный номер: нет.        К 29         Катодные процессы при осаждении гафния из хлоридных и хлоридно-фторидных расплавов [] / М. В. Смирнов, А. Н. Барабошкин, Н. А. Салтыкова, В. Е. Комаров // Тр. / Ин-т электрохимии УФАН СССР. - 1961. - Вып. 2 : Электрохимия расплавленных солевых и твердых электролитов. - С. 63-69. - Библиогр.: 10 назв. ББК 54 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ПРОЦЕСС КАТОДНЫЙ -- ОСАЖДЕНИЕ ГАФНИЯ -- ГАФНИЙ -- Hf -- РАСПЛАВ ХЛОРИДНО-ФТОРИДНЫЙ -- РАСПЛАВ ХЛОРИДНЫЙ -- ПОЛЯРИЗАЦИЯ КАТОДНАЯ

Инвентарный номер: нет.        С 87         Структура сплошных осадков гафния, полученных электролизом хлоридного расплава [] / З. С. Мартемьянова, О. С. Петенев, А. Н. Барабошкин, Л. Е. Ивановский // Тр. / Ин-т электрохимии УНЦ АН СССР. - 1974. - Вып. 21 : Электрохимия расплавленных солевых и твердых электролитов. - С. 53-55. - Библиогр.: 5 назв. ББК 54 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ОСАДКИ СПЛОШНЫЕ -- ОСАЖДЕНИЕ ГАФНИЯ -- ГАФНИЙ -- ЭЛЕКТРОЛИЗ РАСПЛАВЛЕННЫХ ХЛОРИДОВ -- РАСПЛАВ ХЛОРИДНЫЙ -- ХЛОРИД РАСПЛАВЛЕННЫЙ -- NaCl-KCl-HfCl4 -- NaCl -- KCl -- HfCl4 -- ХЛОРИД НАТРИЯ -- ХЛОРИД КАЛИЯ -- ХЛОРИД ГАФНИЯ -- НАТРИЙ -- КАЛИЙ -- ГАФНИЙ -- Na -- K -- Hf -- ИССЛЕДОВАНИЕ МЕТАЛЛОГРАФИЧЕСКОЕ Аннотация: Сплошные осадки гафния, электроосажденные из расплава NaCl-KCl-HfCl4 при 750-800 С, имеют столбчатую структуру. Ось текстуры осадка [1120]. Поверхность осадка при 800 С образована гранями семейства {1010}, при 750 С - плоскостями семейств {1010} и {1011}