Поисковый запрос: (<.>K=ГАЛОГЕНИДНЫЕ РАСПЛАВЫ<.>) |
Общее количество найденных документов : 15
Показаны документы с 1 по 10 |
|
1.
| Кременецкий В. Г. Роль внешнесферных катионов в процессах комплексообразования тантала и ниобия в галогенидных расплавах/В. Г. Кременецкий, Е. Г. Поляков, Л. П. Полякова // Физическая химия и электрохимия редких и цветных металлов: Тез. докл. 7-го Кольского семинара по электрохимии редких и цветных металлов. -Апатиты, 1992.-С.60
|
2.
| Степанов В. П. Плотность заряда на золотом электроде в галогенидных расплавах /В. П. Степанов // Расплавы, 2003,N N 4.-С.49 - 65.: ил.
|
3.
| Электрохимия вольфрама в низкотемпературных карбамид - галогенидных расплавах /Н. Х. Туманова [и др.] // Украинский химический журнал, 2003. т.Т. 69,N N 11 - 12.-С.37 - 40.: ил.
|
4.
| Некрасов В. Н. Сравнительный анализ цифровых характеристик инертных газов и галогенов в галогенидных расплавах/В. Н. Некрасов // Физическая химия и электрохимия редких и цветных металлов: Тез. докл. 7-го Кольского семинара по электрохимии редких и цветных металлов. -Апатиты, 1992.-С.93-94
|
5.
| Андрийко А. А. Взаимодействие циркония с галогенидными расплавами /А. А. Андрийко, А. А. Омельчук, В. А. Хохлов // Расплавы, 2014. т.№ 4.-С.42-51.
|
6.
| Елькин О. В. Бестоковое диффузионное насыщение никеля гадолинием в расплаве LiCl-KCl-GdCl3/О. В. Елькин, А. В. Ковалевский, В. В. Чебыкин // Известия ВУЗ. Цветная металлургия, 2011. т.№ 5.-С.35-39.
|
7.
| Шаповал В. И. Совместное электровосстановление комплексов титана и бора в галогенидных расплавах/В. И. Шаповал, И. В. Заруцкий, В. С. Кублановский // Физическая химия и электрохимия редких и цветных металлов: Тез. докл. 7-го Кольского семинара по электрохимии редких и цветных металлов. -Апатиты, 1992.-С.122
|
8.
| Определение кислорода в галогенидных фтортанталатных расплавах методом ИК-спектроскопии/О. А. Залкинд [и др.] // Журнал аналитической химии, 2001. т.Т. 56,N N 11.-С.1163-1164: ил.
|
9.
| Исследование методом молекулярной динамики свойств расплавов, получаемых при контактном плавлении щелочно-галогенидных систем/П. Ф. Зильберман [и др.] // Расплавы, 1998,N N 5.-С.88-94
|
10.
| Тищенко А. А. Электрохимическое осаждение покрытий карбида вольфрама из галогенидных расплавов/А. А. Тищенко, В. В. Малышев, В. И. Шаповал // Журнал прикладной химии, 1999. т.Т. 72,N N 11.-С.1812-1815
|
|
|