Поисковый запрос: (<.>K=ГАЛОГЕНИДНЫЕ РАСПЛАВЫ<.>) |
Общее количество найденных документов : 15
Показаны документы с 1 по 10 |
|
1.
| О существовании оксофторидных соединений ниобия низших степеней окисления в галогенидных расплавах/С. А. Кузнецов [и др.] // Доклады Академии наук, 1999. т.Т. 368,N N 6.-С.774-777
|
2.
| Тищенко А. А. Электрохимическое осаждение покрытий карбида вольфрама из галогенидных расплавов/А. А. Тищенко, В. В. Малышев, В. И. Шаповал // Журнал прикладной химии, 1999. т.Т. 72,N N 11.-С.1812-1815
|
3.
| Исследование методом молекулярной динамики свойств расплавов, получаемых при контактном плавлении щелочно-галогенидных систем/П. Ф. Зильберман [и др.] // Расплавы, 1998,N N 5.-С.88-94
|
4.
| Комаров В. Е. Влияние комплексообразования на направление диффузионного переноса металлов в расплавах галогенидов щелочных металлов/В. Е. Комаров, Н. П. Бородина // Радиохимия, 1999. т.Т. 41,N N 5.-С.423-426
|
5.
| Температурные и концентрационные изменения изобарной и изохорной теплоемкости некоторых галогенидных расплавов/В. И. Минченко [и др.] // Расплавы, 1999,N N 6.-С.21-33
|
6.
| Образование соединений никель-тантал в галогенидных фторотанталатных расплавах/Э. С. Матыченко [и др.] // Журнал прикладной химии, 2001. т.Т. 74,N N 2.-С.177-181: граф.
|
7.
| Высокотемпературный электрохимический синтез диборида циркония в галогенидных расплавах/Н. Н. Ускова [и др.] // Журнал прикладной химии, 2000. т.Т. 73,N N 9.-С.1456-1462: ил.
|
8.
| Определение кислорода в галогенидных фтортанталатных расплавах методом ИК-спектроскопии/О. А. Залкинд [и др.] // Журнал аналитической химии, 2001. т.Т. 56,N N 11.-С.1163-1164: ил.
|
9.
| Электрохимия вольфрама в низкотемпературных карбамид - галогенидных расплавах /Н. Х. Туманова [и др.] // Украинский химический журнал, 2003. т.Т. 69,N N 11 - 12.-С.37 - 40.: ил.
|
10.
| Степанов В. П. Плотность заряда на золотом электроде в галогенидных расплавах /В. П. Степанов // Расплавы, 2003,N N 4.-С.49 - 65.: ил.
|
|
|