Поисковый запрос: (<.>K=ОСАЖДЕНИЕ<.>) |
Общее количество найденных документов : 45
Показаны документы с 1 по 10 |
|
1.
| Тищенко А. А. Электрохимическое осаждение покрытий карбида вольфрама из галогенидных расплавов/А. А. Тищенко, В. В. Малышев, В. И. Шаповал // Журнал прикладной химии, 1999. т.Т. 72,N N 11.-С.1812-1815
|
2.
| Колосов В. Н. Защита от коррозии аппаратуры из никеля в хлорид-фторотанталатных расплавах/В. Н. Колосов, Э. С. Матыченко, А. Т. Беляевский // Защита металлов, 2000. т.Т. 36,N N 6.-С.596-601: табл., граф., фот.
|
3.
| Образование соединений никель-тантал в галогенидных фторотанталатных расплавах/Э. С. Матыченко [и др.] // Журнал прикладной химии, 2001. т.Т. 74,N N 2.-С.177-181: граф.
|
4.
| Электрометаллургия вольфрама в расплавах/В. В. Малышев [и др.] // Известия высших учебных заведений. Цветная металлургия, 2000,N N 4.-С.13-25: ил.
|
5.
| Салтыкова Н. А. Электролитическое осаждение сплавов иридий-рутений из хлоридных расплавов. Стационарные потенциалы сплавов и катодные процессы/Н. А. Салтыкова, О. В. Портнягин // Электрохимия, 2000. т.Т. 36,N N 7.-С.884-889: ил.
|
6.
| Малышев В. В. Электрохимическое осаждение вольфрамовых и вольфраммолибденовых покрытий из метафосфатсодержащих галид-оксидных и оксидных расплавов/В. В. Малышев // Защита металлов, 2001. т.Т. 37,N N 3.-С.244-250
|
7.
| Коровенков А. П. Цементация вольфрама на стали и альфа-железе из поливольфраматного расплава/А. П. Коровенков // Расплавы, 2000,N N 4.-С.80-88: ил.
|
8.
| Электрохимическое осаждение покрытий карбидов молибдена и вольфрама с использованием материала электрода (алмаза) в качестве компонента синтеза/В. В. Малышев [и др.] // Журнал неорганической химии, 1997. т.Т. 42,N N 9.-С.1476-1479
|
9.
| Осаждение платины в виде покрытий или порошков макро и наноструктуры из низкотемпературных расплавов/С. А. Кочетова [и др.] // Украинский химический журнал, 2006. т.Т.72,N N 1-2.-С.55-58.: ил.
|
10.
| Интеркаляция натрия и лития в графит как первая стадия электрохимического способа получения углеродных нанотрубок/Я. И. Сычев [и др.] // Электрохимия, 2005. т.Т. 41,N N 9.-С.1079-1086.: ил.
|
|
|