Поисковый запрос: (<.>K=ПОДЛОЖКИ<.>) |
Общее количество найденных документов : 38
Показаны документы с 1 по 10 |
|
1.
| Исследование кристаллографической текстуры и морфологии поверхности буферных слоев для ВТСП-2, нанесенных методом дуального термореактивного магнетронного напыления /С. Ю. Лучкин, И. И. Акимов, А. В. Кацай, Н. Н. Краснобаев, А. В. Митин, В. С. Митин, В. К. Орлов, А. О. Титов // Нанотехника, 2011. т.№ 4.-С.78-84
|
2.
| Разработка ионно-пучкового метода изготовления кремниевых нанопроводов /Б. А. Гурович [и др.] // Российские нанотехнологии, 2012. т.№ 1-2.-С.90-93
|
3.
| Структура и трибологические свойства новых функциональных биокомпозитных материалов на основе пептида и наночастиц золота /А. И. Лоскутов, В. Б. Ошурко, Е. Е. Карпова, Н. В. Кошелева, О. Я. Урюпина, А. В. Фалин // Нанотехника, 2012. т.№ 2.-С.59-65
|
4.
| Получение и материаловедческие исследования биаксиально текстурированных ленточных подложек из никелевых сплавов для сверхпроводящих лент 2-го поколения /И. И. Акимов, А. В. Кацай, Д. А. Крюков, С. Ю. Лучкин, В. С. Митин, А. О. Титов // Нанотехника, 2012. т.№ 2.-С.36-40
|
5.
| Эллипсометрическая характеризация структур Si-SiO2/В. П. Гавриленко [и др.] // Нано- и микросистемная техника , 2012. т.№ 2.-С.42-45
|
6.
| Влияние окисления катализатора на рост углеродных нанотрубок/А. С. Басаев [и др.] // Нано- и микросистемная техника для лазерной индустрии , 2011. т.№ 12.-С.6-8
|
7.
| Нагель М. Ю. Моделирование роста осаждаемых пленок /М. Ю. Нагель, Ю. В. Мартыненко // Российские нанотехнологии, 2011. т.Т. 6,N № 9-10.-С.104-108
|
8.
| Оптимизация условий формирования тонких пленок ZnO для использования в интегральных МЭМС-устройствах/Д. Г. Громов [и др.] // Нано- и микросистемная техника , 2011. т.№ 12.-С.27-30
|
9.
| Конструктивные и схемотехнические способы повышения чувствительности биполярных магнитотранзисторов для прецизионного контроля перемещений микромеханических элементов /А. В. Козлов [и др.] // Нано- и микросистемная техника , 2011. т.№ 12.-С.19-20
|
10.
| Болометр с термочувствительным слоем из оксида ванадия VO x // Российские нанотехнологии, 2012. т.Т. 7,N № 5-6.-С.44-52
|
|
|