И 88 Исследование кристаллографической текстуры и морфологии поверхности буферных слоев для ВТСП-2, нанесенных методом дуального термореактивного магнетронного напыления / С. Ю. Лучкин, И. И. Акимов, А. В. Кацай, Н. Н. Краснобаев, А. В. Митин, В. С. Митин, В. К. Орлов, А. О. Титов // Нанотехника. - 2011. - № 4. - С. 78-84 : рис. - Библиогр.: с. 84 (8 назв.) . - ISSN 1816-4498
Рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ТЕКСТУРА -- ВТСП -- СЛОИ БУФЕРНЫЕ -- ОКСИД МАГНИЯ -- ОСАЖДЕНИЕ С ИОННО-ПУЧКОВЫМ АССИСТИРОВАНИЕМ Аннотация: Проведена серия экспериментов с варьированием технологических режимов при нанесении буферных пленочных покрытий из MgO и YSZ методом «дуального» термореактивного магнетронного напыления с ионным ассистированием (IBAD) на ленточную подложку из сплава Х20Н80-Н. Результаты исследований показывают, что кристаллическая стехиометрическая морфологически однородная пленка MgO толщиной до 100 нм, нанесенная на ленточную подложку, имеет преимущественно биаксиальную текстуру (200) с полушириной текстурного максимума 5-10°, при этом интенсивность дифракционного пика в случае применения IBAD существенно увеличивается. Кристаллическая пленка YSZ (200 нм) повторяет текстуру подложки. Полученные результаты свидетельствуют о возможности использования данных ленточных носителей с буферами в качестве основы для нанесения оксидных композиций для получения ВТСП-лент 2 поколения |