О-62 Оптимизация условий формирования тонких пленок ZnO для использования в интегральных МЭМС-устройствах / Д. Г. Громов [и др.] // Нано- и микросистемная техника . - 2011. - № 12. - С. 27-30 : рис. - Библиогр. : с. 30 (17 назв.) . - ISSN 1813-8586
Рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ZNO -- СОПРОТИВЛЕНИЕ УДЕЛЬНОЕ -- ПЛЕНКА ТОНКАЯ -- ПЬЕЗОЭФФЕКТ -- РАСПЫЛЕНИЕ МАГНЕТРОННОЕ -- МЭМС-УСТРОЙСТВА Аннотация: Представлены результаты исследований тонких пленок ZnO для использования в составе интегральных МЭМС-устройствах. Пленки ZnO:Ga получены в процессе магнетронного распыления соответствующей мишени в среде аргона без нагрева подложки. Показано, что удельное сопротивление и стабильность во времени пленок ZnO:Ga существенно зависит от их толщины, воздействия солнечного излучения, внешней окружающей среды. Комплекс доведенных исследований указывает на то, что ужиной нестабильности тонких пленок ZnO являются процессы генерации и залечивания кислородных вакансий, создающие донорные уровни в запрещенной зоне ZnO. Для формирования пленок ZnO с пьезоэлектрическими свойствами требуется осаждение в среде кислорода или последующий отжиг в аналогичной среде, а повышения стабильности пленок во времени можно достигнуть с помощью покрытия, защищающего от воздействия внешней газовой среды |